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画像ファイル名:1769596520971.jpg-(11391 B)
11391 B単層単結晶膜の開発に成功Name名無し26/01/28(水)19:35:20No.775056+ 08日23:14頃消えます
物質・材料研究機構(NIMS)の佐久間芳樹NIMS特別研究員と
東京大学の長汐晃輔教授らは、二硫化モリブデン(MoS2)の
単層単結晶の成膜技術を開発した。2インチウエハーの全域に均一な膜を作れる。
二硫化モリブデンはサブ1ナノ世代の2次元半導体の材料になる。
トランジスタを作製したところ高い移動度を確認した。
2次元半導体の基盤技術になる可能性がある。
https://topics.smt.docomo.ne.jp/article/newswitch/business/newswitch-48165?redirect=1
1無題Name名無し 26/01/28(水)19:36:38No.775058+
    1769596598296.jpg-(12953 B)
12953 B
サファイアの膜に二硫化モリブデンを吹き付ける技術
シリコン半導体は1.5ナノが限界と言われているが
これはその先を見据えた新技術で1ナノ、0.5ナノ半導体への突破口となる二次元半導体の基盤となる
2無題Name名無し 26/01/28(水)21:45:39No.775077+
やはり日本が新技術では上か

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